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依据台积电的工艺道路nm工艺了，这一代工艺会全面运用EUV光刻技能。除了光刻机之外，蚀刻机也是半导体工艺中必不行少的一步，在这样的范畴我国半导体配备公司也取得了可喜的前进，中微半导体的5nm蚀刻机现已打入台积电的供应链。
日前在首届临港新片区出资论坛上，中微半导体设备公司董事长兼首席执行官尹志尧博士提到了该公司的开展，指出中微半导体正在跟从台积电依照摩尔定律的开展走，后者的3nm工艺现已研制一年多了，估计2021年头就要试产。
尹志尧博士表明中微半导体也在跟着这个道路nm——尹志尧博士创建的中微半导体主要是蚀刻机、MOCVD等设备，它们与光刻机同时被称为半导体工艺三大关键设备，而这儿说的5nm指的是用于5nm工艺的等离子蚀刻机。
据介绍，等离子体刻蚀机是芯片制造中的一种关键设备，用来在芯片上进行微观雕琢，每个线条和深孔的加工精度都是头发丝直径的几千分之一到上万分之一，精度操控要求十分高。
半导体工艺的技能水平是由光刻机决议的，所以中微半导体做5nm蚀刻机并不等于能做5nm光刻，可是这样的范畴的开展仍然含义严重，先进的蚀刻机价格也要数百万美元，并且一条生产线要运用很多台蚀刻机，总价值仍然不行小觑。
依据中微半导体的2019年上半年财报，该公司1-6月完成盈余收入8.01亿元，同比增加72.03%；归属于上市公司股东的净利润3037.11万元，与上年同期相比扭亏为盈。
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